SUPRA40是一款高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡，擁有第三代GEMINI 鏡筒，可變壓強(qiáng)性能加上多種納米工具的使用，不用花費(fèi)大量時間，使高分辨率成像和非導(dǎo)體樣本的分析成為可能，超大的樣品室適合各種類型探頭及配件的選擇。該場發(fā)射電鏡適用于材料領(lǐng)域、失效分析、過程控制，納米技術(shù)等。
用途：
掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域，進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。
ZEISS的場發(fā)射掃描電鏡全部采用新一代專利鏡筒(GEMINI)設(shè)計，具有優(yōu)良的高、低加速電壓性能。創(chuàng)新的InLens設(shè)計是目前**上**真正的內(nèi)置鏡筒電子束光路上二次電子探測器，具有*佳的靈敏度和*高的接收效率，而且只接收來自樣品表面的二次電子，因此具有業(yè)界*高等級的分辨率和圖像質(zhì)量。二次電子探測器和背散射電子探測器均內(nèi)置于鏡筒電子束光路上，試樣的工作距離不受背散射探測器的影響，可以非常接近極靴，這樣可以同時獲得*高的二次電子像分辨率和背散射電子像分辨率，且接收的背散射電子的能量可以控制。ZEISS的場發(fā)射掃描電鏡創(chuàng)造性的采用電磁、靜電復(fù)合式物鏡，雜散磁場小，可對鐵磁體樣品進(jìn)行高分辨率成像。
