****光學(xué)品牌，可見光學(xué)和電子光學(xué)的**。其電子光學(xué)前身為L(zhǎng)EO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋）和ZEISS。1965年推出****臺(tái)商業(yè)化掃描電鏡；1985年推出**上**臺(tái)數(shù)字化掃描電鏡。EVO系列電鏡是高性能、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。MA 25用于材料領(lǐng)域,LS 25用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級(jí)的物鏡設(shè)計(jì)，提供高低真空成像功能，可對(duì)各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界**的X射線分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設(shè)計(jì)，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時(shí)還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺(tái)為五軸全自動(dòng)控制。標(biāo)準(zhǔn)的**率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護(hù))成像分析。
用途：
掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測(cè)量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測(cè)量。
技術(shù)參數(shù)：
分辨率：2.0nm@30KV(SE with Lab6 option) 3.0nm@30KV(SE and W) 4.5nm@30KV(VP with BSD)
加速電壓：0.2—30KV
放大倍數(shù)：5—1000000x
視野范圍：6mm
X-射線參數(shù)：8.5mm WD，35度接收角
壓力范圍：10—400Pa (LS25-3000Pa)
工作室：420mm(φ)×330mm(h)
5軸試樣載物臺(tái)：X=130mm Y=130mm Z=50mm T=0-90°R=360°
*大試樣高度：210mm，試樣*大直徑：300mm
系統(tǒng)控制：基于Windows XP 的SmartSEM
主要特點(diǎn)：
*大的樣品高度可達(dá)210mm
*大樣品重量5Kg
*大的樣品直徑300mm
能在可變壓力下操作
高亮度LaB6資源選擇
光線套選擇
技術(shù)優(yōu)勢(shì)：
在z軸上可機(jī)動(dòng)化的移動(dòng)50mm并且在X和Y軸上可移動(dòng)130mm
通用圖像處理
用X射線分析改進(jìn)了LaB6成像質(zhì)量
支持兩個(gè)空間的范圍
